热烈祝贺鹏城半导体《一种插板阀以及立式双室热丝CVD系统》发明专利获得国家知识产权局授权,并于2024年12月10日获得国家发明专利证书。
2024/12/16
在金秋十月的武漢,一場匯聚全國乃至全球新材料領域頂尖智慧的盛會--第五屆中國新材料產業發展大會即將拉開帷幕。 此次大會於2024年10月16日至18日在湖北省武漢市經開區中國車谷國際體育文化交流中心隆重舉行,由中國材料研究學會主辦,吸引了眾多新材料產業界的佼佼者參與。 其中,鵬城半導體技術(深圳)有限公司(簡稱「鵬城半導體」)作為行業內的佼佼者,將亮相大會,展示其在半導體領域的最新成果與技術創新。
2024/10/15
等離子鍍膜儀是一種表面處理裝備,具有廣泛的應用領域和重要的功能優勢。 它主要用於表面塗覆和改性處理。 通過將材料暴露在等離子體環境中,利用離子轟擊和反應沉積的機製,可實現對材料表面的改性和塗覆。 這項技術在各個行業都有廣泛的應用,例如電子、光電、醫療、汽車等領域。
2024/08/12
磁控濺射鍍膜儀(PVD鍍膜設備)是一種常見的表面鍍膜設備,是在真空條件下利用蒸發或濺射在基體表面沉積薄膜的技術,製備金屬、合金、化合物、半導體、陶瓷、介質複合膜及其它化學反應膜等,適用於鍍製各種單層膜、多層膜、摻雜膜及合金膜,可鍍製磁性材料和非磁性材料。 廣泛應用於電子、光電、光學、醫療等行業。 為了確保其正常使用並獲得良好的鍍膜效果,以下是使用磁控濺射鍍膜儀時需要注意的一些細節和技巧。
2024/07/29
熱絲化學氣相沉積(HFCVD)金剛石塗層設備廠家《地震資訊》
金剛石作為超寬帶隙半導體材料,具有高載流子遷移率、高熱導率、高擊穿電場、高載流子飽和速率和低介電常數等優異物理特性,被認為是製備下一代高功率、高頻、高溫及低功率損耗電子器件的「終極半導體」。
2024/07/22
磁控濺射鍍膜儀(PVD鍍膜設備)是一種先進的表面處理設備,它具有高效的特點。 通過利用磁場控制離子束的運動軌跡,實現對材料表面的濺射附著,從而獲得高質量的薄膜塗層。 磁控濺射鍍膜儀的主要作用是在不同材料表面形成均勻、緻密且具有良好附著力的薄膜層,以提高材料的硬度、耐磨性和耐腐蝕性。 同時,它也可以用於改變材料的光學性能、電學性能和導熱性能等,滿足不同領域的需求。
2024/07/17
鵬城半導體 HFCVD熱絲化學氣相沉積 設備 高性價比 生產廠家《颱風快訊》
金剛石是一種典型的多功能極限材料,在電學、光學、熱學、力學聲學和電化學方面具有優異性能,在眾多高新技術領域具有廣闊的應用前景。
2024/07/09
在快速發展的半導體技術領域,物理氣相沉積(PVD)是實現薄膜沉積工藝精度和效率的關鍵工具。 讓我們一起來了解PVD技術在半導體行業中的先進應用。
2024/07/04
CVD金剛石薄膜技術由於其出色的性能和廣泛的應用前景,已經被應用到了許多領域。 未來,隨著技術的進步和性能的不斷優化,CVD金剛石薄膜在以下領域有著更廣闊的應用前景:
2024/04/22