2024年,全球PVD真空鍍膜設備行業的總規模約為22億美元,而且預計到2024年,這一數字將會翻倍,達到47億美元。 PVD真空鍍膜技術由非金屬物質以真空溫度和帶電離子碰撞技術,形成厚膜,具有聚合度高、粘著力強、透明度高及耐腐蝕性好等優點。
2024/03/04
真空鍍膜是表面處理技術的一項分支,是指為了減少雜質的干擾,在高度真空環境下,通過物理或化學手段,將金屬、非金屬或化合物材料(膜材)轉換成氣態或等離子態,並沉積於玻璃、金屬、陶瓷、塑料或有機材料等固體材質(簡稱基材、基板或基片)表面形成薄膜的過程。
2024/02/28
化學氣相沉積(CVD)技術是用來製備高純、高性能固體薄膜的主要技術,致力於為集成電路、半導體照明、微機電系統、功率半導體、化合物半導體、新能源光伏等領域提供各種類型的CVD設備,滿足客戶多種製造工藝需求。
2024/01/29
所謂濺射就是用荷能粒子(通常用惰性氣體的正離子)去轟擊固體(以下稱靶材)表面,從而引起靶材表面上的原子(或分子)從其中逸出的一種現象。 這一現象是格洛夫(Grove)於1842年在實驗研究陰極腐蝕問題時,陰極材料被遷移到真空管壁上而發現的。 利用這種濺射方法在基體上沉積薄膜是1877年問世的。 但是,利用這種方法沂積薄膜的初期存在著濺射速率低,成膜速度慢,並且必須在裝置上設置高壓和通人惰性氣體等一系列問題。 因此,發展緩慢險些被淘汰。 只是在化學活性強的貴金屬難熔金屬、介質以及化合物等材料上得到了少量的應用。
2023/03/15
離子鍍膜設備起源於20世紀50年代D.M.Maiox提出的理論,且在當時開始有了對應的實驗;直到1971年,chamber等發表電子束離子鍍膜技術;而反應蒸鍍(ARE)技術則是在1972年的Bunshah報告所指出,此時產生了TC及TN等超硬質的薄膜類型;同樣是在1972年,smith和Moley在鍍膜工藝中採用了空心陰極技術。 到了20世紀80年代,我國離子鍍終於達到工業應用的水準,相繼出現了真空多弧離子鍍及電弧放電型離子鍍等鍍膜工藝。
2023/02/13
作為聚焦於微納材料(含半導體材料)、微納製造工藝、微納裝備的研發設計和生產製造的供應商-鵬城半導體技術(深圳)有限公司(簡稱:鵬城半導體),借助中國材料大會這個展示創新技術產品及應用的平台,鵬城半導體將展出其精心研發的HFCVD熱絲化學氣相沉積系統解決方案、科研/生產型磁控濺射(PVD真空鍍膜)解決方案、分子束外延薄膜生長設備MBE、PECVD等離子體增強化學氣相沉積解決方案等。 熱切期待國內外嘉賓蒞臨廣州白雲國際會議中心一期2F62展位,共同探索材料設計製備發展新路徑,共謀行業新機遇,攜手書寫產業高質量發展的嶄新篇章。
2024/07/03
鵬城半導體邀請您參加6月26-28日,SEMI-e 2024深圳國際半導體展齊聚深圳國際會展中心(寶安)
SEMl-e2024第六屆深圳國際半導體展將於6月26-28日在深圳國際會展中心(寶安)盛大開幕。 作為半導體領域頗具影響力和代表性的行業盛會,本屆展會將匯聚800多家展商集中展示芯片設計、晶圓製造與封裝、半導體專用設備與零部件、先進材料、第三代半導體/IGBT,汽車半導體為主的半導體產業鏈,構建半導體產業交流融合的新生態。
2024/06/17
邀請函|2024全國先進塗層與薄膜技術應用發展大會(6.18-19蘇州)
鵬城半導體技術(深圳)有限公司,由哈爾濱工業大學(深圳)與有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。 公司立足於市場前沿、產業前沿和技術前沿的交叉點,尋求創新引領與可持續發展,解決產業的痛點和國產化難題,爭取產業鏈的自主可控。
2024/06/11
2024 年4 月12-14 日在昆明花之城豪生國際酒店舉辦第一屆新能源與光電技術國際會議(ICEO2024),本次國際會議是新能源與光電領域科研工作者的一次專業盛會,將全面地展示科研工作者們在鈣鈦礦太陽能電池、有機太陽能電池、薄膜電池、燃料電池、鋰/鈉電池、發光二極管、發光電化學電池、光電探測器、激光器、傳感器、薄膜晶體管等研究領域所取得的最新進展及成果,深入探討相關研究領域所面臨的機遇、挑戰及未來的發展方向。 屆時,鵬城半導體技術(深圳)有限公司(簡稱:鵬城半導體)也受主辦方邀請亮相本屆會議。
2024/03/25
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