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展會邀請丨鵬城半導體誠邀您蒞臨2025中國材料大會！

發布時間:

2025-07-01

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「中國材料大會2025」將於2025年7月5-8日在福建省廈門國際會展中心舉行，大會預計規模30000人，擬設115個國內(際)分會，涵蓋能源材料、環境材料、先進結構材料、功能材料、材料設計製備與評價等五大類主題；同時開設一批特色論壇，包括青年論壇、特色新材料論壇、材料教育論壇、材料期刊論壇等，除此之外，還同期舉行國際新材料科研儀器與設備展覽會等。

一、會議介紹

「中國材料大會2025」將於2025年7月5-8日在福建省廈門國際會展中心舉行，大會預計規模30000人，擬設115個國內(際)分會，涵蓋能源材料、環境材料、先進結構材料、功能材料、材料設計製備與評價等五大類主題；同時開設一批特色論壇，包括青年論壇、特色新材料論壇、材料教育論壇、材料期刊論壇等，除此之外，還同期舉行國際新材料科研儀器與設備展覽會等。

二、展位資訊

鵬城半導體 將攜基於奈米與原子製造的 PVD/CVD 技術，用於高品質的薄膜製備。例如，用磁控濺射技術進行單晶薄膜製備，將磁控濺射用於分子束外延的束流源等，前往參會。展館號：C3館，展位號：C3094，歡迎大家蒞臨指導，技術交流。

三、主推產品

* 用磁控濺射技術進行單晶薄膜製備，將磁控濺射用於分子束外延的束流源

* 磁控濺射技術解決深徑比高於10:1的微孔鍍膜

* 大尺寸金刚石多晶晶圓片，用於大功率器件、高頻器件及大功率雷射器的散熱熱沉

* 採用單頻或雙頻電漿增強型化學氣相沉積技術，是沉積高品質的氮化矽、氧化矽等薄膜的理想工藝設備

分子束外延薄膜生長設備（MBE）

生產型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控濺射鍍膜機

生產型 高真空磁控濺射/離子輔助/多弧複合鍍膜機

生產型 高真空磁控濺射及離子輔助複合鍍膜機

科研型 高真空磁控濺射鍍膜機

HFCVD 熱絲化學氣相沉積設備

PECVD 電漿增強化學氣相沉積設備

四、鵬城半導體技術（深圳）有限公司

鵬城半導體技術(深圳)有限公司，由哈爾濱工業大學(深圳)與有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。公司立足於技術前沿與市場前沿的交叉點，尋求創新引領與可持續發展，解決產業的痛點和國產化難題，爭取產業鏈的自主可控。

鵬城微納技術（沈陽）有限公司是鵬城半導體技術（深圳）有限公司全資子公司，是半導體工藝和裝備的設計中心和生產製造基地。

公司核心業務是微納技術與高端精密製造，具體應用領域包括半導體材料、半導體工藝和半導體裝備的研發設計、生產製造、工藝技術服務及半導體裝備的升級改造，可為用戶提供工藝研發和打樣。

公司人才團隊知識結構完整，有以哈工大教授和博士為核心的高水平材料研究和工藝研究團隊；還有來自工業界的高級裝備設計師團隊，他們具有20多年的半導體材料研究、外延技術研究和半導體薄膜製備成套裝備設計、生產製造的經驗。

公司依託於哈爾濱工業大學(深圳)，具備先進的半導體研發設備平台和檢測設備平台，可以在高起點開展科研工作。公司總部位於深圳市，具備半導體裝備的研發、生產、調試以及半導體材料與器件的中試、生產、銷售的能力。

五、會展中心交通示意圖

六、論壇活動

 

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鵬城半導體引領未來：TGV及TSV技術爆發式增長在即

隨著半導體行業的飛速發展，尤其在晶片互連工藝領域，貫穿玻璃通孔（TGV）技術日益成為核心增長動力。預計在不久的將來，該技術將在全球及中國市場迎來前所未有的增長機遇。據最新市場研究數據顯示，中國已經成為全球最大的TGV技術應用市場。

磁控濺射技術在醫療影像關鍵器件核心薄膜製備中的應用

在現代醫療影像技術的持續演進中，磁控濺射技術已成為薄膜製備領域的核心工藝，廣泛應用於醫療影像關鍵器件的製造過程。

鵬城半導體磁控濺射技術實現新突破，助力高端真空鍍膜設備國產化

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物理氣相沉積技術（PVD）原理、分類及應用

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TGV玻璃通孔技術取得重要突破，應用前景持續拓展

近日，TGV（Through Glass Via，玻璃通孔）技術在材料加工與微納製造領域取得顯著進展，引發半導體、先進封裝及新興電子器件行業的高度關注。憑藉其優異的電學性能、高頻特性及三維集成能力，TGV正成為下一代高密度互連關鍵技術之一。