生產型 TGV/TSV
發布時間:
2024-12-27
生產型 TGV/TSV 高真空磁控濺射鍍膜機該設備用於玻璃基板和陶瓷基板的高密度通孔和盲孔的鍍膜，深徑比>10:1。例如：用於基板鍍膜工序Cu/Ti微結構，Au/TiW傳輸導線雙體系膜層沉積能力，為微系統集成密度提升提供支撐。
生產型 TGV/TSV 高真空磁控濺射鍍膜機該設備用於玻璃基板和陶瓷基板的高密度通孔和盲孔的鍍膜，深徑比>10:1。例如：用於基板鍍膜工序Cu/Ti微結構，Au/TiW傳輸導線雙體系膜層沉積能力，為微系統集成密度提升提供支撐。
設備優點：膜層均勻性及重複性高，膜層附著力強，設備依據工藝配方進行可編程自動化控制。
設備結構及性能參數
-單鍍膜室、雙鍍膜室、多腔體鍍膜室
-臥式結構、立式結構
-線列式、團簇式
-樣品傳遞：直線式、圓周式
-磁控濺射靶數量及類型：多支矩形磁控靶
-磁控濺射靶：直流、射頻、中頻、高能脈衝兼容
-基片可加熱、可升降、可加偏壓
-通入反應氣體，可進行反應濺射鍍膜
-操作方式：手動、半自動、全自動
-基片托架：根據基片尺寸配置
-基片幅面：2、4、6、8、10英寸及客戶指定尺寸
-進/出樣室極限真空度：≤8X10-5Pa
-進/出樣室工作背景真空度：≤2X10-3Pa
-鍍膜室的極限真空度：5X10-5Pa，
工作背景真空度：8X10-4Pa
-膜層均勻性：<5%（片內），<5%（片間）
-設備總體漏放率：關機12小時真空度≤10Pa
新聞中心
在高端製造的競技場上，每一項技術的突破都如同閃耀的新星，照亮產業前行的道路。鵬城半導體技術（深圳）有限公司（以下簡稱：鵬城半導體），作為產業內的創新先鋒，憑藉其卓越的硬質塗層鍍膜解決方案，正為高端製造性能的提升注入強大動力，成為眾多企業信賴的合作夥伴。
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鵬城半導體亮相，聚焦「卡脖子」和「前沿必爭」領域 - 2025中國材料大會
「中國材料大會2025」：作為新材料領域國家級學術品牌大會，面向國家重大需求，匯聚最權威的專家學者和國家級戰略科技力量，聚焦「卡脖子」領域和「前沿必爭」領域的關鍵突破，推動高端學術研討，解決行業發展中重大共性問題和新興產業推進中重大難題，搶占全球新材料發展的學術制高點，形成體系化國家級戰略布局，為推動我國新質生產力建設打造堅實的物質基礎與保障。
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2025年5月15日是全省第十九個「政務公開日」，活動主題為「深化政務公開、助力決戰決勝」。沈陽市科技創新服務中心以此為契機，結合沈陽市科技創新政策宣傳與助企服務需求，展開了專題調研走訪活動。此次調研對象為鵬城微納技術（沈陽）有限公司，旨在宣傳沈陽市科技創新平台建設成果、科技條件平台資源共享及創新券政策落實成果，促進沈陽市科技中介服務聯盟協同發展，進一步優化營商環境，助力企業創新突破。
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