等離子鍍膜儀的特點與功能優勢
等離子鍍膜儀是一種表面處理裝備,具有廣泛的應用領域和重要的功能優勢。 它主要用於表面塗覆和改性處理。 通過將材料暴露在等離子體環境中,利用離子轟擊和反應沉積的機製,可實現對材料表面的改性和塗覆。 這項技術在各個行業都有廣泛的應用,例如電子、光電、醫療、汽車等領域。
等離子鍍膜儀是一種表面處理裝備,具有廣泛的應用領域和重要的功能優勢。 它主要用於表面塗覆和改性處理。 通過將材料暴露在等離子體環境中,利用離子轟擊和反應沉積的機製,可實現對材料表面的改性和塗覆。 這項技術在各個行業都有廣泛的應用,例如電子、光電、醫療、汽車等領域。

其次,等離子鍍膜儀具有優越的功能優勢。 它可以改善材料表面的性能。 通過控制等離子體中的離子能量和流量,可以增強材料的硬度、耐磨性和耐腐蝕性,從而提高材料的使用壽命和性能穩定性。 可以實現對材料表面的納米級塗覆。 通過調節反應氣體的成分和沉積條件,可以在材料表面形成均勻且緻密的塗層,具有優良的光學、電學和熱學性能。 還可實現對材料表面組分的調控,例如在光電領域中,可以通過沉積摻雜層來實現半導體器件的性能調節。
除此之外,等離子鍍膜儀還具有高效、環保的特點。 相比傳統的鍍膜技術,等離子鍍膜儀可以在較低的溫度下進行材料表面處理,減少能耗和熱損失。 同時,該技術不需要使用有害的溶劑和化學物質,對環境友好。
設備製造商-鵬城半導體技術(深圳)有限公司
免責聲明:
本文部分轉載來自於網絡,其版權和文責屬原作者所有,若您是原作者不希望被轉載,請聯繫我們處理(sales@hitsemi.com)。
新聞中心
隨著半導體行業的飛速發展,尤其在晶片互連工藝領域,貫穿玻璃通孔(TGV)技術日益成為核心增長動力。預計在不久的將來,該技術將在全球及中國市場迎來前所未有的增長機遇。據最新市場研究數據顯示,中國已經成為全球最大的TGV技術應用市場。
在現代醫療影像技術的持續演進中,磁控濺射技術已成為薄膜製備領域的核心工藝,廣泛應用於醫療影像關鍵器件的製造過程。
鵬城半導體磁控濺射技術實現新突破,助力高端真空鍍膜設備國產化
深圳——在半導體先進封裝與微納製造領域持續深耕的鵬城半導體技術(深圳)有限公司(以下簡稱「鵬城半導體」)近日宣布,其自主研發的高真空磁控濺射鍍膜設備在TGV(玻璃通孔)鍍膜工藝上取得重大技術突破,成功實現深徑比大於10:1的高密度通孔鍍膜,為國產真空鍍膜設備在三維集成領域的發展注入新動力。
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition, PVD)是一種在真空環境下,透過物理手段將靶材轉化為氣態原子、分子或離子,並使其在基體表面沉積形成薄膜的先進表面工程技術。自20世紀初發展至今,PVD技術因其環保、成本可控、耗材少、膜層緻密均勻、膜基結合力強等優勢,已成為現代增材製造與功能塗層領域的重要技術。
PVD可按需製備具有耐磨、耐腐蝕、導電、絕緣、壓電、磁性等特性的功能薄膜,廣泛應用於機械、電子、建築、醫療等多個行業。
近日,TGV(Through Glass Via,玻璃通孔)技術在材料加工與微納製造領域取得顯著進展,引發半導體、先進封裝及新興電子器件行業的高度關注。憑藉其優異的電學性能、高頻特性及三維集成能力,TGV正成為下一代高密度互連關鍵技術之一。
聯系人:戴小姐
地址:廣東省深圳市南山區留仙大道3370號南山智園崇文園區1號樓1704
瀋陽辦公地址:遼寧省瀋陽市大東區望花南街15號瀋陽大學科技園
電話:13632750017
郵箱:Sales@hitsemi.com
在線留言