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邀請函|2024全國先進塗層與薄膜技術應用發展大會(6.18-19蘇州)

發布時間:

2024-06-11

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鵬城半導體技術(深圳)有限公司,由哈爾濱工業大學(深圳)與有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。 公司立足於市場前沿、產業前沿和技術前沿的交叉點,尋求創新引領與可持續發展,解決產業的痛點和國產化難題,爭取產業鏈的自主可控。

公司簡介

鵬城半導體技術(深圳)有限公司,由哈爾濱工業大學(深圳)與有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。 公司立足於市場前沿、產業前沿和技術前沿的交叉點,尋求創新引領與可持續發展,解決產業的痛點和國產化難題,爭取產業鏈的自主可控。
公司核心業務是微納材料(含半導體材料)、微納製造工藝、微納裝備的研發設計和生產製造。
科研型設備:PVD、CVD、MBE分子束外延等。
工業生產型設備:大型蒸鍍設備、多弧離子源鍍膜設備、矩形磁控濺射鍍膜設備、電子束蒸發設備、OLED鍍膜設備、HFCVD熱絲化學氣相沉積設備、真空高溫CVD爐、六英寸MBE生產設備。
公司技術和產品可以廣泛應用於:新材料、新能源、微電子光電子、半導體、聲學、光學、微機電系統(MEMS);傳感器、生物醫學、精準醫療、大健康、環保、微納機器人、表面技術等領域。
公司核心研發團隊知識結構完整,有以哈工大教授和博士為核心的高水平材料研究和工藝研究團隊,還有來自工業界的高級裝備設計師團隊。 公司團隊具有20多年的微納材料與器件研究(含半導體材料)、PVD/CVD沉積技術研究、外延技術研究、薄膜製備成套裝備設計和生產製造的經驗。
HFCVD熱絲化學氣相沉積設備





金剛石薄膜生產線

研發設計製造了熱絲CVD金剛石設備,分為實驗型設備和生產型設備兩類。
設備主要用於微米晶和納米晶金剛石薄膜的研發和生產。 可用於力學級別、熱學級別、光學級別、聲學級別的金剛石產品的研發生產。
可以製造大尺寸金剛石多晶晶圓片,用於大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉。
可用於生產製造防腐耐磨硬質塗層;環保領域污水處理用的金剛石產品。
可用於平面工件的金剛石薄膜製備,也可用於刀具表面或其它不規則表面的金剛石硬質塗層製備。
可用於太陽能薄膜電池的研發與生產。




熱絲CVD金剛石設備

高真空磁控濺射儀(實驗型、生產型)

實驗型-高真空磁控濺射儀

高真空磁控濺射儀是用磁控濺射的方法,製備金屬、合金、化合物、半導體、陶瓷、介質複合膜及其它化學反應膜等;適用於鍍製各種單層膜、多層膜、摻雜膜及合金膜;可鍍製磁性材料和非磁性材料。

生產型-高真空磁控濺射儀

分子束外延薄膜生長設備(MBE)

分子束外延薄膜生長設備(MBE)可以在某些襯底上實現外延生長工藝,實現分子自組裝、超晶格、量子阱、一維納米線等。 可以進行第二代半導體和第三代半導體的工藝驗證和外延片的生長制造。
分子束外延薄膜生長設備在薄膜外延生長時具有超高的真空環境,是在理想的環境下進行薄膜外延生長,它可以排除在薄膜生長時的各種干擾因素,得到理想的高精度薄膜。
我公司設計製造的分子束外延薄膜生長實驗設備,分實驗型和生產型兩種,配置合理,結構簡單,操作方便,技術先進,性能可靠,用途多,實用性強,價格相對較低,可供各大學的實驗室及科研機構作為分子束外延方面的教學實驗、科學研究及工藝實驗之用。
生產型MBE可用於批量外延片的製備。


PECVD等離子體增強化學氣相沉積設備

PECVD 等離子體增強化學氣相沉積設備主要用於在潔淨真空環境下進行氮化矽和氧化矽的薄膜生長;採用單頻或雙頻等離子增強型化學氣相沉積技術,是沉積高質量的氮化矽、氧化矽等薄膜的理想工藝設備。

會議名稱:2024全國先進塗層與薄膜技術應用發展大會
會議時間:6.18-19
會議地點:蘇州-在水一方大酒店,江蘇省蘇州市相城區尊園路1號

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薄膜沉積設備

薄膜沉積設備分類：薄膜沉積是指在矽晶圓等基板上沉積待處理的薄膜材料，所沉積薄膜材料主要是二氧化矽、氮化矽、多晶矽等非金屬以及銅等金屬，沉積膜可為非晶質、多晶或單晶。

展會邀請｜鵬城半導體誠摯邀請您參加第七屆全球半導體產業（重慶）博覽會

第七屆全球半導體產業（重庆）博覽會將於2025年5月8日-10日在重庆國際博覽中心舉辦，此次博覽會以「新時代．創造芯未來」為主題，展示面積達40000㎡，參展企業800家，吸引35000名專業觀眾到場參觀交流。

鵬城半導體榮膺國家高新技術企業，引領納米與原子製造技術新征程

在科技飛速發展的當下，半導體行業作為現代信息技術的基石，正不斷推動著各個領域的創新與變革。近日，鵬城半導體技術（深圳）有限公司憑藉其卓越的技術創新能力和在半導體領域的突出貢獻，成功獲得國家高新技術企業認定。這一殊榮不僅是對鵬城半導體過往努力的高度認可，更標誌著其在納米與原子製造技術領域的領先地位得到了權威認證。

半導體製造及先進封裝持續升溫

得益於政策的有力支持、行業周期性的變化、創新驅動的增長以及國產替代的加速推進，從IC設計到晶圓製造、封裝測試，再到設備材料等多個細分領域，國產化率實現了顯著提升，標誌著我國半導體產業正朝著自主可控的方向穩步邁進。

鵬城半導體攜TGV/TSV/TMV技術亮相慕尼黑上海光博會

慕尼黑上海光博會，堪稱亞洲激光、光學、光電行業的年度盛會。自 2006 年首次在上海舉辦以來，其規模與影響力與日俱增，已然成為全球光電行業的重要交流平台。 慕尼黑上海光博會將於2025年3月20-22日在上海新國際博覽中心（上海市浦東新區龍陽路2345號）舉辦，屆時鵬城半導體將攜前沿薄膜沉積設備及技術解決方案在E4館4631亮相。基於納米與原子製造的PVD/CVD技術，用於高質量的薄膜製備。例如，用磁控濺射技術進行單晶薄膜製備，將磁控濺射用於分子束外延的束流源等。展品涵蓋微納光學、聲學、醫療領域等熱門應用領域，本次慕尼黑上海光博會給大家帶來前沿技術及產品亮相，誠邀各位新老客戶撥冗蒞臨展位洽談交流！