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鵬城半導體引領未來：TGV及TSV技術爆發式增長在即

發布時間:

2026-02-03

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隨著半導體行業的飛速發展，尤其在晶片互連工藝領域，貫穿玻璃通孔（TGV）技術日益成為核心增長動力。預計在不久的將來，該技術將在全球及中國市場迎來前所未有的增長機遇。據最新市場研究數據顯示，中國已經成為全球最大的TGV技術應用市場。

隨著 半導體 行業的飛速發展，尤其在晶片互連工藝領域，貫穿 玻璃通孔（TGV）技術 日益成為核心增長動力。預計在不久的將來，該技術將在全球及中國市場迎來前所未有的增長機遇。據最新市場研究數據顯示，中國已經成為全球最大的TGV技術應用市場。


在半導體製造的前沿， 鵬城半導體 公司憑藉其領先的技術實力和敏銳的市場洞察力，成功開發出生產型的 高真空磁控濺射鍍膜設備 ，廣泛應用於TGV、TSV乃至TMV的製備。這不僅標誌著中國在半導體製造技術上的重大突破，更是向世界展示了中國在半導體互連領域的領導地位。

貫穿玻璃通孔（TGV）技術作為半導體互連領域的新興技術，其重要性不言而喻。該技術不僅提高了晶片的集成度，還為半導體器件的性能提升和成本降低提供了新的解決方案。隨著技術的不斷進步和市場的快速增長，2026至2030年期間，TGV技術將呈現爆發式增長態勢。中國市場引領全球，全球應用市場佔比35%+。

生產型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控濺射鍍膜設備

同時，鵬城半導體的這款高真空磁控濺射鍍膜設備憑藉其卓越的性能和高效的生產能力，已經成為行業的標竿。該設備不僅滿足了高真空度的要求，還具備出色的薄膜均勻性和良好的附著力。其廣泛的應用領域，使其在半導體製造領域佔據重要地位。

行業專家普遍認為，鵬城半導體的這一創新將為整個行業帶來革命性的變革。在全球半導體市場競爭日益激烈的背景下，中國企業在核心技術上的突破無疑為中國半導體產業的崛起注入了強大的動力。未來，隨著TGV技術的廣泛應用和市場的快速增長，鵬城半導體必將繼續引領行業發展的潮流。

綜上所述，以鵬城半導體為代表的中國半導體製造企業正以前所未有的速度發展，並在全球範圍內發揮著越來越重要的作用。我們相信，2026至2030年期間，TGV技術的爆發式增長將為中國乃至全球的半導體產業帶來前所未有的發展機遇。

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磁控濺射技術在醫療影像關鍵器件核心薄膜製備中的應用

在現代醫療影像技術的持續演進中，磁控濺射技術已成為薄膜製備領域的核心工藝，廣泛應用於醫療影像關鍵器件的製造過程。

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物理氣相沉積技術（PVD）原理、分類及應用

物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition, PVD）是一種在真空環境下，透過物理手段將靶材轉化為氣態原子、分子或離子，並使其在基體表面沉積形成薄膜的先進表面工程技術。自20世紀初發展至今，PVD技術因其環保、成本可控、耗材少、膜層緻密均勻、膜基結合力強等優勢，已成為現代增材製造與功能塗層領域的重要技術。 PVD可按需製備具有耐磨、耐腐蝕、導電、絕緣、壓電、磁性等特性的功能薄膜，廣泛應用於機械、電子、建築、醫療等多個行業。

TGV玻璃通孔技術取得重要突破，應用前景持續拓展

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