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熱絲化學氣相沉積(HFCVD)金剛石塗層設備廠家《地震資訊》

發布時間:

2024-07-22

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金剛石作為超寬帶隙半導體材料,具有高載流子遷移率、高熱導率、高擊穿電場、高載流子飽和速率和低介電常數等優異物理特性,被認為是製備下一代高功率、高頻、高溫及低功率損耗電子器件的「終極半導體」。

金剛石作為超寬帶隙半導體材料,具有高載流子遷移率、高熱導率、高擊穿電場、高載流子飽和速率和低介電常數等優異物理特性,被認為是製備下一代高功率、高頻、高溫及低功率損耗電子器件的「終極半導體」。
我國金剛石半導體產業與先進國家相比存在:1、關鍵設備依賴進口,無自主知識產權,易遭到國外封鎖;2、缺乏大尺寸金剛石襯底製備和薄膜外延生長工藝;3、金剛石研磨、鍵合、減薄技術不成熟等差距。 本項目集合高校頂級科研團隊和工業界優秀工程師團隊,打通產業化所需的高質量金剛石薄膜生長、HFCVD熱絲CVD金剛石設備定製、晶圓拋磨鍵合減薄等研發和生產環節,從工具級、熱學級產品切入,並將持續推動光學級、電子級甚至量子級產品研發。
鵬城半導體技術(深圳)有限公司(簡稱:鵬城半導體)自主研發的HFCVD熱絲化學氣相沉積設備(熱絲化學氣相沉積(HFCVD)金剛石塗層設備)可用於微米晶、納米晶金剛石晶圓片生產,也可製造防腐耐磨硬質塗層、金剛石BDD電極、太陽能薄膜電池等。

自主研發生產的單/雙面鍍膜熱絲CVD金剛石設備(HFCVD)可製備金剛石多晶晶圓片襯底尺寸:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸。

金剛石薄膜生產線

 

6英寸金剛石散熱晶圓片

應用領域:第三代半導體、大功率激光器、10G通訊、微納聲學、功放器件、濾波器件等;可用於力學級別、熱學級別、光學級別、聲學級別的金剛石產品的研發生產。
公司簡介:
鵬城半導體技術(深圳)有限公司,由哈爾濱工業大學(深圳)與有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。 公司立足於市場前沿、產業前沿和技術前沿的交叉點,尋求創新引領與可持續發展,解決產業的痛點和國產化難題,爭取產業鏈的自主可控。
公司核心業務是微納材料(含半導體材料)、微納製造工藝、微納裝備的研發設計和生產製造。
科研型設備:PVD、CVD、MBE分子束外延等。
工業生產型設備:大型蒸鍍設備、多弧離子源鍍膜設備、矩形磁控濺射鍍膜設備、電子束蒸發設備、OLED鍍膜設備、HFCVD熱絲化學氣相沉積設備、真空高溫CVD爐、六英寸MBE生產設備。
公司技術和產品可以廣泛應用於:新材料、新能源、微電子光電子、半導體、聲學、光學、微機電系統(MEMS);傳感器、生物醫學、精準醫療、大健康、環保、微納機器人、表面技術等領域。
公司核心研發團隊知識結構完整,有以哈工大教授和博士為核心的高水平材料研究和工藝研究團隊,還有來自工業界的高級裝備設計師團隊。 公司團隊具有20多年的微納材料與器件研究(含半導體材料)、PVD/CVD沉積技術研究、外延技術研究、薄膜製備成套裝備設計和生產製造的經驗。






 

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薄膜沉積設備分類：薄膜沉積是指在矽晶圓等基板上沉積待處理的薄膜材料，所沉積薄膜材料主要是二氧化矽、氮化矽、多晶矽等非金屬以及銅等金屬，沉積膜可為非晶質、多晶或單晶。

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