磁控濺射鍍膜儀的定義和作用


發布時間:

2024-07-17

磁控濺射鍍膜儀(PVD鍍膜設備)是一種先進的表面處理設備,它具有高效的特點。 通過利用磁場控制離子束的運動軌跡,實現對材料表面的濺射附著,從而獲得高質量的薄膜塗層。 磁控濺射鍍膜儀的主要作用是在不同材料表面形成均勻、緻密且具有良好附著力的薄膜層,以提高材料的硬度、耐磨性和耐腐蝕性。 同時,它也可以用於改變材料的光學性能、電學性能和導熱性能等,滿足不同領域的需求。

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當光電子的「光速」創新遇上半導體的「精微」突破,引領全球產業協同發展的兩大高端專業大展,正跨界而來、閃耀鵬城。 9月10日,第26屆中國國際光電博覽會(CIOE中國光博會)與SEMI-e深圳國際半導體展暨2025集成電路產業創新展亮相深圳國際展覽中心。此次展會以超過30萬平方米的展示規模、匯聚5000餘家參展企業、預計吸引16萬名專業觀眾,樹立起「光電子+半導體」產業協同發展的新標竿,為全球科技產業突破技術壁壘、激活創新動能注入強勁動力。

鵬城半導體硬質塗層鍍膜解決方案:助力高端製造性能

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全球 MBE 市場穩步增長,中國鵬城半導體突破技術壟斷

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