真空鍍膜是表面處理技術的一項分支,是指為了減少雜質的干擾,在高度真空環境下,通過物理或化學手段,將金屬、非金屬或化合物材料(膜材)轉換成氣態或等離子態,並沉積於玻璃、金屬、陶瓷、塑料或有機材料等固體材質(簡稱基材、基板或基片)表面形成薄膜的過程。
2024/02/28
化學氣相沉積(CVD)技術是用來製備高純、高性能固體薄膜的主要技術,致力於為集成電路、半導體照明、微機電系統、功率半導體、化合物半導體、新能源光伏等領域提供各種類型的CVD設備,滿足客戶多種製造工藝需求。
2024/01/29
所謂濺射就是用荷能粒子(通常用惰性氣體的正離子)去轟擊固體(以下稱靶材)表面,從而引起靶材表面上的原子(或分子)從其中逸出的一種現象。 這一現象是格洛夫(Grove)於1842年在實驗研究陰極腐蝕問題時,陰極材料被遷移到真空管壁上而發現的。 利用這種濺射方法在基體上沉積薄膜是1877年問世的。 但是,利用這種方法沂積薄膜的初期存在著濺射速率低,成膜速度慢,並且必須在裝置上設置高壓和通人惰性氣體等一系列問題。 因此,發展緩慢險些被淘汰。 只是在化學活性強的貴金屬難熔金屬、介質以及化合物等材料上得到了少量的應用。
2023/03/15
離子鍍膜設備起源於20世紀50年代D.M.Maiox提出的理論,且在當時開始有了對應的實驗;直到1971年,chamber等發表電子束離子鍍膜技術;而反應蒸鍍(ARE)技術則是在1972年的Bunshah報告所指出,此時產生了TC及TN等超硬質的薄膜類型;同樣是在1972年,smith和Moley在鍍膜工藝中採用了空心陰極技術。 到了20世紀80年代,我國離子鍍終於達到工業應用的水準,相繼出現了真空多弧離子鍍及電弧放電型離子鍍等鍍膜工藝。
2023/02/13
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