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真空鍍膜行業市場現狀

發布時間:

2024-02-28

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真空鍍膜是表面處理技術的一項分支,是指為了減少雜質的干擾,在高度真空環境下,通過物理或化學手段,將金屬、非金屬或化合物材料(膜材)轉換成氣態或等離子態,並沉積於玻璃、金屬、陶瓷、塑料或有機材料等固體材質(簡稱基材、基板或基片)表面形成薄膜的過程。

1、真空鍍膜行業技術水平及特點

真空鍍膜是表面處理技術的一項分支,是指為了減少雜質的干擾,在高度真空環境下,通過物理或化學手段,將金屬、非金屬或化合物材料(膜材)轉換成氣態或等離子態,並沉積於玻璃、金屬、陶瓷、塑料或有機材料等固體材質(簡稱基材、基板或基片)表面形成薄膜的過程。
利用真空鍍膜技術鍍製薄膜後,可使材料表面獲得新的複合性能並實現新型的工程應用,賦予材料表面新的機械功能、裝飾功能和聲、電、光、磁及其轉換等特殊功能(例如防輻射、增減透光、導電或絕緣、導磁、抗氧化、耐磨損耐高溫耐腐蝕等),從而改善產品原有性能、提高產品質量、延長產品壽命等。 和傳統鍍膜方法(如電鍍、化學鍍膜)相比,真空鍍膜使用的鍍膜材料種類更豐富、膜層厚度更易控制、附著力更強、適用範圍更廣,在操作過程中更加節能、安全、環保。
真空鍍膜技術與傳統的電鍍、熱浸鍍技術相比較,主要有三大優勢:一是不影響被鍍材料的質量,在加熱鍍膜材料時,不需要過高溫度,因此不會出現被鍍材料在幾何尺寸上發生變形或降低材質性能等現象;二是可以較大範圍內自由選擇鍍膜材料,更容易在組成和構造上對膜材進行控制;三是鍍膜過程與電鍍、熱浸鍍技術相比,對周圍環境影響更小。
三類真空鍍膜技術介紹及如下:
1、真空蒸發鍍膜:加熱膜材使表面組分以原子團或分子團形式被蒸發出來,並沉降在基片表面形成薄膜



 

2、真空磁控濺射鍍膜:用高能等離子體轟擊靶材,並使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,並沉積在基片表面,經歷成膜過程,最終形成薄膜

 

3、真空離子鍍膜:在真空條件下,利用氣體放電使工作氣體或被蒸發物質(膜材)部分離化,在工作氣體離子或被蒸發物質的離子轟擊作用下,把蒸發物或其反應物沉積在被鍍基片表面
真空鍍膜行業發展態勢
真空鍍膜設備除應用在消費電子、集成電路、光學光電子元器件等領域外,還可以應用於醫療器械、航空航天、太陽能、塑料、包裝、紡織、機械、防偽、建築等領域。 為加快發展先進製造業,提高重大裝備國產化水平,國家一直積極鼓勵發展高端、精密、專用精密製造技術的開發和運用,先後發布了《新材料產業發展指南》《關於實施製造業升級改造重大工程包通知》《國民經濟和社會發展第十四個五年規劃和 2035 年遠景目標綱要》等政策法規。
隨著國家對環境保護的日益重視,真空鍍膜的高性價比、低污染的特點將成為表面處理業內主流技術。 一方面,表面處理技術發展趨勢是向低耗能無污染的技術方向發展,真空鍍膜技術依附其環保節能、安全可控的特性,配合國家可持續發展戰略,市場覆蓋率迅速擴大。
另一方面,表面處理技術對於被處理對象的表面進行各種改性改造,增強了被處理對象表面的耐磨性、耐腐蝕性、光滑度等屬性,使被處理對象在使用過程中大大減少了損耗和浪費,起到了節能環保作用,符合國家在產業政策和產業規劃上的導向。 在此背景下,掌握了低耗能無污染先進技術的國內企業,能夠搶占市場先機。



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