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鵬城半導體邀請您參加中國材料大會-7月8-11日廣州

發布時間:

2024-07-03

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作為聚焦於微納材料(含半導體材料)、微納製造工藝、微納裝備的研發設計和生產製造的供應商-鵬城半導體技術(深圳)有限公司(簡稱:鵬城半導體),借助中國材料大會這個展示創新技術產品及應用的平台,鵬城半導體將展出其精心研發的HFCVD熱絲化學氣相沉積系統解決方案、科研/生產型磁控濺射(PVD真空鍍膜)解決方案、分子束外延薄膜生長設備MBE、PECVD等離子體增強化學氣相沉積解決方案等。 熱切期待國內外嘉賓蒞臨廣州白雲國際會議中心一期2F62展位,共同探索材料設計製備發展新路徑,共謀行業新機遇,攜手書寫產業高質量發展的嶄新篇章。

會議時間:2024年7月8-11日
會議地點:廣州白雲國際會議中心
主辦單位:中國材料研究學會
「中國材料大會」是中國材料研究學會的學術年會,是重要的系列品牌會議之一,是中國新材料界學術水平最高、涉及領域最廣、前沿動態最新的超萬人學術大會,是面向國家重大需求、推動新材料前沿重大突破的高水平品牌大會。
為推動經濟社會高質量發展,加快建設科技強國,實現高水平科技自立自強,擬於2024年7月8-11日在廣東省廣州市舉辦中國材料大會2024,同期召開第二屆世界材料大會。 會議涵蓋能源材料、環境材料、先進結構材料、功能材料、材料設計製備與評價等5大類主題;同時開設一批特色論壇,包括青年論壇、特色新材料論壇、材料教育論壇、材料期刊論壇等。 除此之外,還同期舉行國際新材料科研儀器與設備展覽會等。
作為聚焦於微納材料(含半導體材料)、微納製造工藝、微納裝備的研發設計和生產製造的供應商-鵬城半導體技術(深圳)有限公司(簡稱:鵬城半導體),借助中國材料大會這個展示創新技術產品及應用的平台,鵬城半導體將展出其精心研發的HFCVD熱絲化學氣相沉積系統解決方案、科研/生產型磁控濺射(PVD真空鍍膜)解決方案、分子束外延薄膜生長設備MBE、PECVD等離子體增強化學氣相沉積解決方案等。 熱切期待國內外嘉賓蒞臨廣州白雲國際會議中心一期2F62展位,共同探索材料設計製備發展新路徑,共謀行業新機遇,攜手書寫產業高質量發展的嶄新篇章。
HFCVD熱絲化學氣相沉積系統解決方案可用於微米晶、納米晶金剛石晶圓片生產,也可製造防腐耐磨硬質塗層、金剛石BDD電極、太陽能薄膜電池等。





自主研發生產的單/雙面鍍膜熱絲CVD金剛石設備(HFCVD)可製備金剛石多晶晶圓片襯底尺寸:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸。

金剛石薄膜生產線

 

6英寸金剛石散熱晶圓片

應用領域:第三代半導體、大功率激光器、10G通訊、微納聲學、功放器件、濾波器件等;可用於力學級別、熱學級別、光學級別、聲學級別的金剛石產品的研發生產。
科研/生產型磁控濺射解決方案:真空條件下利用蒸發或濺射在基體表面沉積薄膜的技術,製備金屬、合金、化合物、半導體、陶瓷、介質複合膜及其它化學反應膜等,適用於鍍製各種單層膜、多層膜、摻雜膜及合金膜,可鍍製磁性材料和非磁性材料。

將磁控濺射薄膜沉積技術,升級到薄膜外延技術,為國內首創。 該技術的突破,使設備有望在第三代半導體GaN和第四代半導體ga2O3的外延工藝方面得到應用。

多源大尺寸MBE設備解決方案可以在某些襯底上實現外延生長工藝,實現分子自組裝、超晶格、量子阱、一維納米線等。 可以進行第二代半導體和第三代半導體的工藝驗證和外延片的生長制造。

分子束外延薄膜生長設備MBE在薄膜外延生長時具有超高的真空環境,是在理想的環境下進行薄膜外延生長,它可以排除在薄膜生長時的各種干擾因素,得到理想的高精度薄膜。

PECVD等離子體增強化學氣相沉積解決方案
PECVD 等離子體增強化學氣相沉積設備主要用於在潔淨真空環境下進行氮化矽和氧化矽的薄膜生長;採用單頻或雙頻等離子增強型化學氣相沉積技術,是沉積高質量的氮化矽、氧化矽等薄膜的理想工藝設備。

國產產品領先雙頻技術

7月8-11日,中國材料大會開啟在即,我們期待並熱忱邀請各位嘉賓蒞臨鵬城半導體展台,一同探索半導體設備、材料領域的創新成果,探討行業發展新技術、新產品、新趨勢,共同推動產業鏈的升階發展。

中國材料大會2024 暨國際新材料科研儀器
與設備展覽會第二屆世界材料大會
我們期待與您相見
7月8-11日
廣州白雲國際會議中心
一期2F62
恭候蒞臨





交通指引
乘公交車和地鐵如何到達展館?
地鐵站:地鐵12號線或者地鐵2號線 白雲文化廣場站C口
從機場如何到達展館?
廣州白雲國際機場:地鐵3號線北延線(機場南(1號航站樓)站上車)--嘉禾望崗站(站內換乘2號線)--白雲文化廣場站C口下車。
從火車站如何到達展館?
廣州站:
地鐵2號線(廣州火車站上車)--白雲文化廣場站C口出。
廣州東站:
地鐵3號線北延線(廣州東站上車)--體育西路站(換乘地鐵1號樓)--公園前站(換乘地鐵2號樓)--白雲文化廣場站C口出。
廣州南站:
地鐵2號線(廣州南站上車)--白雲文化廣場站C口出。
出租車如何到達展館
出租車到達方法:
廣州白雲國際機場--廣州白雲國際會議中心 距離27公里 出租車用時30分鐘
廣州站--廣州白雲國際會議中心 距離7公里 出租車用時15分鐘














公司簡介
鵬城半導體技術(深圳)有限公司,由哈爾濱工業大學(深圳)與有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。 公司立足於市場前沿、產業前沿和技術前沿的交叉點,尋求創新引領與可持續發展,解決產業的痛點和國產化難題,爭取產業鏈的自主可控。
公司核心業務是微納材料(含半導體材料)、微納製造工藝、微納裝備的研發設計和生產製造。
科研型設備:PVD、CVD、MBE分子束外延等。
工業生產型設備:大型蒸鍍設備、多弧離子源鍍膜設備、矩形磁控濺射鍍膜設備、電子束蒸發設備、OLED鍍膜設備、HFCVD熱絲化學氣相沉積設備、真空高溫CVD爐、六英寸MBE生產設備。
公司技術和產品可以廣泛應用於:新材料、新能源、微電子光電子、半導體、聲學、光學、微機電系統(MEMS);傳感器、生物醫學、精準醫療、大健康、環保、微納機器人、表面技術等領域。
公司核心研發團隊知識結構完整,有以哈工大教授和博士為核心的高水平材料研究和工藝研究團隊,還有來自工業界的高級裝備設計師團隊。 公司團隊具有20多年的微納材料與器件研究(含半導體材料)、PVD/CVD沉積技術研究、外延技術研究、薄膜製備成套裝備設計和生產製造的經驗。





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薄膜沉積設備分類：薄膜沉積是指在矽晶圓等基板上沉積待處理的薄膜材料，所沉積薄膜材料主要是二氧化矽、氮化矽、多晶矽等非金屬以及銅等金屬，沉積膜可為非晶質、多晶或單晶。

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