產品中心
img
產品中心
產品中心
+
  • 2cc.jpg

PECVD 等離子體增強化學氣相沉積

PECVD 等離子體增強化學氣相沉積設備主要用於在潔淨真空環境下進行氮化矽和氧化矽的薄膜生長；採用單頻或雙頻等離子增強型化學氣相沉積技術，是沉積高品質的氮化矽、氧化矽等薄膜的理想工藝設備。

所屬分類:

各種鍍膜機零部件

服務支持:

13632750017

獲取報價
相關產品
  • 產品描述

  • PECVD 等離子體增強化學氣相沉積設備主要用於在潔淨真空環境下進行氮化矽和氧化矽的薄膜生長；採用單頻或雙頻等離子增強型化學氣相沉積技術，是沉積高品質的氮化矽、氧化矽等薄膜的理想工藝設備。

關鍵詞:

獲取報價

注意:請留下您的郵箱,我們的專業人員會盡快與您聯繫!

安全驗證
立即提交