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項目
配置和指標 1
整體結構 箱式立式,右前開門,內腔尺寸φ900mm×1480mm,內外電解拋光。 外壁水冷,預留多法蘭接口,主機骨架採用型鋼製造,與主泵間設隔板。 電器元件安裝櫃為縱向大板式結構,外觀為鈑金封裝式。 2
系統控制 採用觸摸屏和PLC中央控制方式,配合相關電氣控制單元對設備真空系統、蒸發源系統、工件轉動系統、膜厚監控系統等進行監測和控制,設水、電、氣故障自動聲光報警和保護系統,可切換手動和自動兩種控制模式。 3
真空系統 真空配置乾泵、羅茨泵、冷凝泵,整體抽速大氣至5×10-6 Torr少於30min,極限真空度2×10-7 Torr,漏率優於5E-5Torr L/S,皮拉尼和電離真空計組合監控真空度。 4
工件架系統 整傘式工件架,轉速0-20轉每分鐘可調節,徑向跳動在±2mm。 整傘式不銹鋼鍍膜傘,厚度3mm,可裝載6片8英寸基片。 5
烘烤系統 下烘烤方式,碘鎢燈加熱,溫度範圍RT-450℃,PID自動控溫,溫度均勻性RT -450℃±5℃,溫控儀控制精度±1℃。 6
電子束蒸發源 最大功率10KW, e型電子槍,配4 x 25cc坩堝一套,坩堝底部驅動器控制,可有線遙控束斑旋轉角度和起始位置,插入式擋板,底部氣缸驅動,一路電子槍氣體備用。 7
等離子體源 自製高輸出陰極離子源,最大電流10A,最大電壓300V,自動啟動和停止,長時間連續穩定工作100小時以上,三路工藝氣體。 8
膜厚控制系統 六探頭石英晶體膜厚儀和相應控制系統,可系統控制蒸發源蒸發速率、蒸發源擋板、材料充氣、電子槍坩堝轉動,同時可實現自動真空、自動鍍膜工藝。 9
條保需求 設備最大功率約50KW。 電子槍獨立地線,接地電阻≤4Ω。
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