高真空電子束蒸發鍍膜機

所屬分類:

高真空電子束蒸發鍍膜機

服務支持:

13632750017

獲取報價

相關產品

產品描述

高真空電子束蒸發鍍膜機(PVD鍍膜設備)是在高真空條件下,採用電子束轟擊材料加熱蒸發的方法,在襯底上鍍製各種金屬、氧化物、導電薄膜、光學薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬膜等;可鍍製混合物單層膜、多層膜或摻雜膜;可鍍各種高熔點材料。

可用於生產、科學實驗及教學,可根據用戶要求專門訂製。
可根據用戶使用要求,選配石英晶體膜厚自動控制及光學膜厚自動控製兩種方式, 通過PLC 和工控機聯合實現對整個鍍膜過程的全程自動控制, 包括真空系統、烘烤系統、蒸發過程和膜層厚度的監控功能等,從而提高了工作效率和保證產品質量的一致性和穩定性。
設備特點
設備具有真空度高、抽速快、基片裝卸方便的特點,配備 E 型電子束蒸發源和電阻蒸發源。 PID自動控溫,具有成膜均勻、放氣量小和溫度均勻的優點。
可根據用戶使用要求,選配石英晶體膜厚自動控制及光學膜厚自動控製兩種方式,通過PLC和工控機聯合實現對整個鍍膜過程的全程自動控制,包括真空系統、烘烤系統、蒸發過程和膜層厚度的監控功能等,從而提高了工作效率和保證產品質量的一致性和穩定性。
真空性能
極限真空:7×10^-5Pa ~ 7 × 10^-6Pa
設備總體漏放率:關機12小時,≤10Pa
恢復工作真空時間短,大氣至7×10^-4Pa≤30分鐘;

高真空電子束蒸發鍍膜機(電子束蒸發鍍膜機)設備構成
E 型電子束蒸發槍、電阻熱蒸發源組件(可選配)、樣品掩膜擋板系統、真空獲得系統及真空測量系統、分子泵真空機組或低溫泵真空機組、旋轉基片加熱台、工作氣路、樣品傳遞機構,膜厚控制系統、電控系統、恆溫冷卻水系統等組成。
可選件:膜厚監控儀,恆溫製冷水箱。
熱蒸發源種類及配置

項目	參數	備註
E 型電子束蒸發系統	1套
功率	6kW ~ 10kW	其它功率(可根據用戶要求選配)
坩堝	1~ 8隻	可根據用戶要求選配
電阻熱蒸發源組件	1~ 4套	(可根據用戶要求配裝)