高真空電阻熱蒸發鍍膜機

所屬分類:

高真空電阻熱蒸發鍍膜機

服務支持:

13632750017

獲取報價

相關產品

產品描述

高真空電阻熱蒸發鍍膜機(PVD鍍膜設備)採用電阻熱蒸發技術,它是在高真空條件下,通過加熱材料的方法,在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜。可用於生產和科學實驗,可根據用戶要求專門訂製;可用於材料的物理和化學研究;可用於製備金屬導電電極;可用於有機材料的物理化學性能研究實驗、有機半導體器件的原理研究實驗、OLED實驗研究及有機太陽能薄膜電池研究實驗等。

設備構成
- 單鍍膜室
- 單鍍膜室+進樣室
- 單鍍膜室+手套箱(可將鍍膜室放在手套箱內)
- 單鍍膜室+進樣室+手套箱(可將鍍膜室放在手套箱內)
- 多鍍膜室+樣品傳遞室+手套箱(組成團簇式結構,樣品傳遞採用真空機械手)
設備組成
電阻熱蒸發源組件、樣品掩膜擋板系統、真空獲得系統及真空測量系統、分子泵(或冷泵)真空機組、旋轉基片加熱台、工作氣路、手套箱連接部件、樣品傳遞機構,膜厚控制系統、電控系統、恆溫冷卻水系統等組成。
熱蒸發源類型和數量,可根據用戶需要進行配置。
可選件:膜厚監控儀,恆溫製冷水箱。
熱蒸發源種類及配置
電阻熱蒸發源組件:數量:1~ 12套(可根據用戶要求配裝);
電阻熱蒸發源種類:鉭(鎢或鉬)金屬舟熱蒸發源組件、石英舟熱蒸發源組件、鎢極或鎢藍熱蒸發源組件、鉭爐熱蒸發源組件(配氮化硼坩堝或陶瓷坩堝)、束源爐熱蒸發組件(配石英坩堝或氮化硼坩堝)。
高真空電阻熱蒸發鍍膜機
工作條件(實驗室應具備的設備工作條件)
供電:4kW,三相五線製~ AC 380V
工作環境濕度:10℃~ 40℃
工作環境溫度:≤50%
冷卻循環水:0.2m³/H,水溫18℃~ 25℃
水壓:0.15MPa ~ 0.25MPa
真空性能
極限真空:7×10^-5Pa ~ 7 × 10^-6Pa
設備總體漏放率:關機12小時,≤10Pa
操作方式
手動、半自動

生產型磁控濺射離子束多弧鍍膜機

生產型磁控濺射與離子束鍍膜機

科研型櫃式集成一體化高真空熱蒸發鍍膜機