HFCVD 熱絲化學氣相沉積設備

研發設計製造了熱絲CVD鑽石設備，分為實驗型設備和生產型設備兩類。設備主要用於微米晶和納米晶鑽石薄膜的研發和生產。可應用於力學級別、熱學級別、光學級別、聲學級別的鑽石產品的研發生產。可以製造大尺寸鑽石多晶晶圓片，用於大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉。

所屬分類:

CVD 化學氣相沉積設備

服務支持:

13632750017

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產品描述

研發設計製造了熱絲CVD鑽石設備，分為實驗型設備和生產型設備兩類。
設備主要用於微米晶和納米晶鑽石薄膜的研發和生產。可應用於力學級別、熱學級別、光學級別、聲學級別的鑽石產品的研發生產。
可以製造大尺寸鑽石多晶晶圓片，用於大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉。
可用於生產製造防腐耐磨硬質塗層；環保領域污水處理用的鑽石產品。
可用於平面工件的鑽石薄膜製備，也可用於刀具表面或其它不規則表面的鑽石硬質塗層製備。
可用於太陽能薄膜電池的研發與生產。

工件尺寸
圓形平面工件的尺寸：最大φ550mm。
矩形工件尺寸的寬度≤550mm。

矩形工件尺寸長度可根據鍍膜室的長度確定（如：工件長度1200mm）。
配置水冷樣品台。
可單面鍍膜也可雙面鍍膜。

鑽石薄膜生產線

熱絲電源功率
可達300KW，1KW～300KW可調（可根据用戶工藝需求配置功率範圍）
設備安全性
- 電力系統的檢測與保護
- 設置真空檢測與報警保護功能
- 冷卻循環水系統壓力檢測和流量檢測與報警保護
- 設置水壓檢測與報警保護裝置
- 設置水流檢測報警裝置

熱絲CVD鑽石設備

設備構成
真空室構成
雙層水冷結構，立式圓形、立式D形、立式矩形、臥式矩形，前後開門。

真空尺寸：根據工件尺寸和數量確定。
熱絲
熱絲材料：鈮絲、或鎢絲
熱絲溫度：1800℃～2500℃ 可調
熱絲不塌腰（解決了熱絲長時間加熱塌腰問題）。
樣品台
可水冷、可加偏壓、可旋轉、可升降，由調速電機控制，可實現自動升降，（熱絲與襯底間距在5～100mm範圍內可調），要求升降平穩,上下波動不大於0.1mm。
工作氣路（CVD）
工作氣路根據用戶工藝要求配置：
下面氣體配置是某一用戶的配置案例。
H ₂ （5000sccm，濃度100%）
CH ₄ （200sccm，濃度100%）
B ₂ H ₆ （50sccm，H ₂ 濃度99%）
Ar（1000sccm，濃度100%）
真空獲得及測量系統
控制系統及軟體