HFCVD 熱絲化學氣相沉積設備

研發設計製造了熱絲CVD金剛石設備,分為實驗型設備和生產型設備兩類。設備主要用於微米晶和納米晶金剛石薄膜的研發和生產。可用於力學級別、熱學級別、光學級別、聲學級別的金剛石產品的研發生產。可以製造大尺寸金剛石多晶晶圓片,用於大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉。

所屬分類:

HFCVD 熱絲化學氣相沉積設備

服務支持:

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產品描述

研發設計製造了熱絲CVD金剛石設備,分為實驗型設備和生產型設備兩類。
設備主要用於微米晶和納米晶金剛石薄膜的研發和生產。可用於力學級別、熱學級別、光學級別、聲學級別的金剛石產品的研發生產。
可以製造大尺寸金剛石多晶晶圓片,用於大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉。
可用於生產製造防腐耐磨硬質塗層;環保領域污水處理用的金剛石產品。
可用於平面工件的金剛石薄膜製備,也可用於刀具表面或其它不規則表面的金剛石硬質塗層製備。
可用於太陽能薄膜電池的研發與生產。

工件尺寸
圓形平面工作的尺寸:最大φ600mm。
矩形工作尺寸的寬度1000mm/長度可根據鍍膜室的長度確定(如:工件長度1500mm)。
配置水冷樣品台。
可單面鍍膜也可雙面鍍膜。

金剛石薄膜生產線

熱絲電源功率
可達300KW,1KW~ 300KW可調(可根據用戶工藝需求配置功率範圍)
設備安全性
- 電力系統的檢測與保護
- 設置真空檢測與報警保護功能
- 冷卻循環水系統壓力檢測和流量檢測與報警保護
- 設置水壓檢測與報警保護裝置
- 設置水流檢測報警裝置

熱絲CVD金剛石設備

設備構成
真空室構成
雙層水冷結構,立式圓形、立式D形、立式矩形、臥式矩形,前後開門,真空尺寸,根據工件尺寸和數量確定。
熱絲
熱絲材料:鉭絲、或鎢絲
熱絲溫度:1800℃~ 2500℃ 可調
熱絲不塌腰(解決了熱絲長時間加熱塌腰問題)。
樣品台
可水冷、可加偏壓、可旋轉、可升降,由調速電機控制,可實現自動升降,(熱絲與襯底間距在5~ 100mm範圍內可調),要求升降平穩,上下波動不大於0.1mm。
工作氣路(CVD)
工作氣路根據用戶工藝要求配置:
下面氣體配置是某一用戶的配置案例。
H₂(5000sccm,濃度100%)
CH₄(200sccm,濃度100%)
B₂H₆(50sccm,H₂濃度99%)
Ar(1000sccm,濃度100%)
真空獲得及測量系統
控制系統及軟件