小型HFCVD熱絲化學氣相沉積設備 HITSemi-HFCVD-X

小型HFCVD熱絲化學氣相沉積設備，主要用於微米晶和納米晶鑽石薄膜的科學研究。可用於力學級、熱學級、光學級、聲學級的鑽石產品的科學研究。

所屬分類:

PVD/CVD 科學儀器

服務支持:

13632750017

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產品描述

小型HFCVD熱絲化學氣相沉積設備，主要用於微米晶和納米晶鑽石薄膜的科學研究。
可用於力學級、熱學級、光學級、聲學級的鑽石產品的科學研究。
可以研發鑽石多晶晶圓片，用於大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉。
可用於研發防腐耐磨硬質塗層；環保領域污水處理用的鑽石產品。
可用於平面工件的鑽石薄膜製備，也可用於刀具表面或其他不規則表面的鑽石硬質塗層製備。
可用於太陽能薄膜電池的研發。

主要特點
熱絲不塌腰（解決了熱絲長時間加熱塌腰問題）。

可單面鍍膜也可雙面鍍膜。

設備安全性設計，電力系統的檢測與保護、設置真空檢測與報警保護功能、設定水壓檢測與報警保護裝置、冷卻循環水系統壓力檢測和流量檢測與報警保護。

技術參數

產品型號	HITSemi-HFCVD-X
基片尺寸	圓形：最大φ550mm。矩形：最大1200mm x 550mm
熱絲電源功率	1KW～300KW可調
腔體材質	304/316（選配）不鏽鋼，電解拋光
真空室	雙層水冷結構，立式D形、前後開門
真空系統	機械泵
極限真空	5×10 ^-1 帕
熱絲材料	鉭絲或鎢絲
熱絲溫度	1800℃～2500℃ 可調
工藝電源	直流電源
基片台	可旋轉0~3轉/小時、可水冷、可加偏壓（選配）、由調速電機控制，可實現自動升降，（熱絲與襯底間距在5mm～100mm範圍內可調），要求升降平穩,上下波動不大於0.1mm
控制形式	半自動/全自動
工藝氣體（可客製化）	H ₂ （5000sccm，濃度100%） CH ₄ （200sccm，濃度100%） B ₂ H ₆ （50sccm，H ₂ 濃度99%） Ar（1000sccm，濃度100%）
恆溫製冷水箱	可選配
空氣壓縮機	可選配
註：不含尾氣處理系統

設備工作條件

供電	三相五線制，AC 380V，50Hz；接地電阻≤1Ω
功率	根據設備規模配置，峰值功率（50KW~300KW）
冷卻水	≤100升/分钟
水壓	0.1MPa~0.15MPa
水溫	18℃～25℃
氣動部件供氣壓力	0.5MPa～0.7MPa
質量流量控制器供氣壓力	0.05MPa～0.2MPa
工作環境溫度	10℃～40℃
工作環境濕度	≤50%