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小型等離子清洗機（電容式）HITSemi-Plasma-C1

利用電場的能量來激發和維持等離子體。在平行電極板上施加高頻的交流電壓。強大的交變電場使反應氣體中的自由電子加速，這些高能電子與氣體分子發生碰撞，使其電離、分解，從而形成等離子體。

所屬分類:

PVD/CVD 科學儀器

服務支持:

13632750017

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  • 產品描述

  • 利用電場的能量來激發和維持等離子體。在平行電極板上施加高頻的交流電壓。強大的交變電場使反應氣體中的自由電子加速，這些高能電子與氣體分子發生碰撞，使其電離、分解，從而形成等離子體。

    離子定向性強，能量高，對於去除頑固的污染物（如油脂、指紋）和進行表面蝕刻、粗化效果非常好。適用於平面基片的清洗。

    主要特點
    小型化，方便实验室操作和使用，大幅降低实验成本。
    物理濺射能力強。適合處理頑固污染物。

    技術參數

    產品型號 HITSemi-Plasma-C1
    等離子源功率 300W（60%~100%連續可調）
    等離子源頻率 40KHz/13.56MHz
    控制形式 半自動/全自動
    清洗時間 1秒～9999秒可調
    真空度 ＜80帕
    真空泵 抽氣速率：2L/S（油霧過濾）
    內腔（圓形） 尺寸：φ150mm × 280mm
    材質：316不鏽鋼
    有效處理空間 130毫米×245毫米
    處理溫度 ＜60°
    極板佈局 平行電極板：功率極板（1）+不鏽鋼托盤（1）
    工藝氣體 2路（N 2 、Ar、O 2 、H 2 選配）
    控制系統 PLC+觸控螢幕

    設備工作條件

    供電 AC 220V（±10V）50/60Hz
    功率 1.5KW
    工作環境溫度 10℃～40℃
    工作環境濕度 ≤50%

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