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小型等離子清洗機（電感式）HITSemi-Plasma-C2

利用磁場的能量來激發和維持等離子體。將一組線圈（通常是平面線圈或螺旋線圈）繞在或置於反應腔室周圍（或頂部），並施加高頻交流電。交變電流在線圈中產生一個強大的交變磁場，這個變化的磁場根據法拉第電磁感應定律，在反應腔內感應出強大的渦旋電場。感應出的渦旋電場使電子加速，最終激發氣體產生等離子體。

所屬分類:

PVD/CVD 科學儀器

服務支持:

13632750017

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  • 產品描述

  • 利用磁場的能量來激發和維持等離子體。將一組線圈（通常是平面線圈或螺旋線圈）繞在或置於反應腔室周圍（或頂部），並施加高頻交流電。交變電流在線圈中產生一個強大的交變磁場，這個變化的磁場根據法拉第電磁感應定律，在反應腔內感應出強大的渦旋電場。感應出的渦旋電場使電子加速，最終激發氣體產生等離子體。

    高密度的活性自由基使其在化学清洗方面效率極高。可清洗三維立體工件和異形工件。非常適合處理對離子轟擊敏感的材料和器件，如半導體晶片、微電子機械系統（MEMS）、先進封裝等。

    主要特點
    小型化，方便实验室操作和使用，大幅降低实验成本。
    處理溫和均勻，適合精細、敏感器件。
    無電極污染，潔淨度高。

    技術參數

    產品型號 HITSemi-Plasma-C2
    離子源功率 0~200W功率可調
    離子源頻率 13.56MHz
    控制形式 半自動/全自動
    清洗時間 1秒～9999秒可調
    真空度 ＜80帕
    真空泵 抽氣速率：4L/S（油霧過濾）
    內腔（圓形） 尺寸：φ160mm × 210mm
    材質：石英玻璃
    載物托盤 玻璃托盤，平行放置
    工藝氣體 2路（N 2 、Ar、O 2 、H 2 選配）
    控制系統 PLC+觸控螢幕

    設備工作條件

    供電 AC 220V（±10V）50/60Hz
    功率 1.5KW
    工作環境溫度 10℃～40℃
    工作環境濕度 ≤50%

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