高真空超潔淨氣氛爐 HITSemi-VAF-1500

高真空超潔淨氣氛爐集真空抽氣系統、真空爐膛、溫度控制系統、氣路系統、壓力保護系統為一體。爐襯使用多層鎢鉬金屬反射屏製成。

所屬分類:

PVD/CVD 科學儀器

服務支持:

13632750017

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產品描述

高真空超潔淨氣氛爐集真空抽氣系統、真空爐膛、溫度控制系統、氣路系統、壓力保護系統為一體。爐襯使用多層鎢鉬金屬反射屏製成。
採用鎢片為加熱元件；是專為高等院校、科研院所的實驗室及工礦企業對陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特殊材料、建材、金屬、非金屬及其它化合物材料進行燒結、融化、分析、生產而研製的專用設備。

主要特點
本產品採用可靠的整合化電路，工作環境好，抗干擾。
最高溫度時爐體外殼溫度≤40°C，大大提高了工作環境。
微電腦程式控制，全自動升溫/降溫，運行中可以修改控溫參數及程式，靈活方便、操作簡單。
具有正負壓顯示，爐膛超壓保護、超溫保護，水流水壓水溫保護，斷偶保護。

技術參數

產品型號	HITSemi-VAF-1500
溫度控制系統	長期工作溫度：1400°C（可選配，1600°C）
	控制範圍：50°C~1800°C
	控溫精度：±1°C（整合化電路控制，無超調現象）
	爐內溫場均勻度：±2°C（根據加熱室大小而定）
	升溫速率：可自由調節，範圍：最快升溫速率每分鐘20°C（非線性）、最慢升溫速率每小時1°C（非線性）
爐膛	爐膛尺寸（有效熱場）：300mm × 200mm × 200 mm
	發熱元件：高純金屬鎢片（禁止在800°C以上通入N ₂ ）
	發熱元件安裝位置：鼠籠式結構
	隔熱保溫：爐膛內採用10層反射屏（3層鎢、2層鉬、2層310S、3層304）
爐體結構	爐體結構：304不鏽鋼水冷雙層爐體結構，保證良好工作環境
爐體結構	爐體外殼溫度：長期使用不停爐，外殼溫度小於45°C（有水溫檢測）
水冷系統	接口：進、排水口設有接口，可直接連接用戶循環水系統
	保護：排水管帶過壓保護；停水時聲光報警和互鎖裝置啟動，同時開啟緊急冷卻水
	冷水機（可選配）
真空系統	極限真空度：6×10 ^-4 Pa（空爐冷態潔淨）
真空系統	工作真空度：6×10 ^-3 Pa（空爐潔淨）
真空機組	分子泵+機械泵（可選配，乾泵）
氣路系統	可通氣體：Ar、H ₂
氣路系統	充氣系統：加熱過程中可調節真空度
控制形式	半自動/全自動
控制系統	PLC+觸控螢幕

設備工作條件

供電	三相五線制，AC 380V，50Hz；90KVA（設備供電由兩路組成，一路系統供電，一路加熱供電）
功率	60千瓦
冷卻水	≤100升/分钟
水壓	0.1Mpa~0.15MPa
水溫	18℃～25℃
氣動部件供氣壓力	0.5MPa～0.7MPa
質量流量控制器供氣壓力	0.05MPa～0.2MPa
工作環境溫度	10℃～40℃
工作環境濕度	≤50%