生產型高真空磁控濺射/離子輔助/多弧複合鍍膜機

生产型高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机（PVD-1000S系列）该设备广泛应用于铣刀、钻头、轴承、齿轮、镜片等表面的硬质耐磨涂层制备，集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。

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產品描述

生產型高真空磁控濺射/離子輔助/多弧複合鍍膜機（ PVD-1000S系列）該設備廣泛應用於銑刀、鑽頭、軸承、齒輪、鏡片等表面的硬質耐磨塗層製備，集成了工件表面處理、離子清洗、顆粒物控制、磁控濺射、離子輔助鍍膜及反應濺射鍍膜等工藝方法於一體的PVD設備。

可以製備單層膜、多層膜、掺雜膜、金屬膜及合金膜、化合物薄膜等。

設備結構及性能參數

設備由PVD鍍膜室、集成封閉機櫃、分子泵+旋片泵真空機組、真空測量系統、工藝氣路系統、磁控濺射靶、直線型離子源、工件架、靶擋板、工件旋轉機構、脈衝直流電源、高能量脈衝電源、中頻電源、射頻電源、偏壓電源、離子輔助鍍膜電源及控制系統、檢測及報警保護系統、水冷管路系統、循環制冷恆溫水箱、計算機+PLC 兩級控制系統組成。

- 整機外形尺寸：2500mm X 2500mm X 2000mm。也可根據用戶產能規模定制尺寸。

- 磁控濺射靶為矩形，靶面尺寸80mm X 300mm，沿真空室壁的圓周排列，可以隨時在線調整靶面與樣片的距離，靶頭伸縮距離150mm。也可根據工件尺寸調整靶面尺寸。

- 直線型離子源沿真空室壁的圓周排列，數量兩組，工作氣壓0.1-0.3Pa，能量200-5000eV可調，束流強度0.2-1A。

- 工件架為圓筒形結構行星式分布，工件沿圓周排列，每個工位工件既自轉又公轉。樣品裝載數量大；旋轉運動運行平穩，無抖動；密封可靠。

- 工件可加偏壓。

- 加熱系統採用紅外加熱器，對真空環境無污染，加熱均勻；具有PID功能的智能溫控儀控制加熱功率。工件最高可加熱至500攝氏度。

設備重點性能參數

極限真空度	7X10^-5Pa
工作背景真空度	8X10^-4Pa
工作背景真空到達時間	＜30min（空氣濕度低於45％；開門時間＜30min條件下從大氣抽到工作真空度時間）
保壓	關機12小時保壓＜10Pa
濺射室外形尺寸	直徑 875mm X 高度 1000mm
整機尺寸	長 2500mm X 寬 2500mm X 高 2000mm
樣品加熱溫度	室溫~500℃
樣品架公轉速度	0；3~12r/min連續可調
片內膜層均勻性	<5%
片間膜層均勻性	<5%
磁控靶數量	4靶（可根據用戶工藝擴展靶位）
直線型離子源	2靶
磁控靶規格	80mm X 300mm
靶材規格	80mm X 100mm X 8mm