大連相約，與鵬城半導體共赴2026年微納器件與系統應用技術大會-鵬城半導體技術(深圳)有限公司

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大連相約，與鵬城半導體共赴2026年微納器件與系統應用技術大會

發布時間:

2026-05-16

初夏五月，盛会將至。2026年5月22日—24日，2026年微納器件與系統應用技術大會暨第十九屆中國微納電子技術交流與學術研討會將在濱海城市大連隆重召開。鵬城半導體技術（深圳）有限公司（以下簡稱「鵬城半導體」）將出席本次大會。

初夏五月，盛会將至。2026年5月22日—24日，2026年微納器件與系統應用技術大會暨第十九屆中國微納電子技術交流與學術研討會將在濱海城市大連隆重召開。 鵬城半導體技術（深圳）有限公司（以下簡稱「鵬城半導體」） 將出席本次大會，與行業專家學者及產業鏈上下游夥伴共探微納器件、先進封裝、半導體裝備國產化新機遇。大會期間，鵬城半導體技術團隊全程駐場，歡迎蒞臨交流！

鵬城半導體由哈爾濱工業大學（深圳）與擁有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建，公司致力於微納技術與高端精密製造的深度融合，具體應用領域涵蓋半導體和泛半導體材料、工藝、裝備的研發設計、生產製造、工藝技術服務及裝備的升級改造，可為用戶提供工藝研發和打樣，可為生產企業提供生產型設備，可為科學研究提供科研設備，構建起「產學研」融合的產業鏈體系。

本次展會上，鵬城半導體將攜微納領域代表性核心產品精彩亮相。

超高真空高能脈衝磁控鍍膜設備（HITSemi-UHV-HIPIMS）

在超潔淨環境下，採用奈米及 原子級 製造技術，生長高純度高品質薄膜。應用場景之一： GaN單晶薄膜 生長工藝、 GaN基稀磁半導體 分子結構材料製備的工藝實現。

生產型 TGV/TSV/TMV 高真空磁控鍍膜機

該設備用於 玻璃基板 和 陶瓷基板 的 高密度通孔 和盲孔的 金屬種子層鍍膜 ， 深徑比>10:1 。例如：用於基板鍍膜工序Cu/Ti微結構，Au/TiW傳輸導線雙體系膜層沉積能力，為微系統集成密度提升提供支援。

生產型高真空磁控鍍膜/離子輔助/多弧複合鍍膜機

該設備廣泛應用於銑刀、鑽頭、軸承、齒輪、鏡片等表面的 硬質耐磨塗層 製備，整合了工件表面處理、離子清洗、顆粒物控制、 磁控鍍膜 、 離子輔助鍍膜 及 反應濺射鍍膜 等工藝方法於一體的PVD設備。

生產型高真空磁控鍍膜及離子輔助複合鍍膜機

該設備採用 磁控鍍膜 、 離子輔助 、 反應濺射 的工藝方法，在工件表面製備各種薄膜材料。該設備是集成了工件表面處理、離子清洗、顆粒物控制、磁控鍍膜、離子輔助鍍膜及反應鍍膜等工藝方法於一體的PVD設備。

科研型高真空磁控鍍膜機

該設備是科研類及中試類高真空磁控鍍膜機，主要用於2～12英寸 圓形平面磁控鍍膜靶 和小型 矩形靶 進行濺射鍍膜。可製備金屬、合金、化合物、半導體、陶瓷、介質複合膜及其它化學反應膜等；適用於鍍製各種單層膜、多層膜、摻雜膜及合金膜；可鍍製磁性材料和非磁性材料。可用於 TGV/TSV/TMV先進封裝 的研發， 高深徑比（≥10:1） 的 深孔金屬種子層鍍膜 。

HFCVD熱絲化學氣相沉積設備

設備主要用於 微米晶 和 奈米晶鑽石薄膜 的研發和生產。可用於力學級別、熱學級別、光學級別、聲學級別的鑽石產品的研發生產。可以製造 大尺寸鑽石多晶晶圓片 ，用於大功率器件、高頻器件及大功率雷射器的 散熱熱沉 。可用於生產製造防腐耐磨 硬質塗層 ；環保領域污水處理用的鑽石產品。可用於平面工件的鑽石薄膜製備，也可用於刀具表面或其它不規則表面的鑽石硬質塗層製備。可用於 太陽能薄膜電池 的研發與生產。

高真空電子束蒸發鍍膜設備

設備是在高真空條件下，採用 電子束轟擊 材料 加熱蒸發 的方法，在襯底上鍍製各種金屬、氧化物、導電薄膜、光學薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬膜等；可鍍製混合物單層膜、多層膜或摻雜膜；可鍍製各種 高熔點材料 。

PECVD等離子體增強化學氣相沉積設備

設備主要用於在潔淨真空環境下進行 氮化矽 和 氧化矽 的 薄膜生長 ；採用 單頻或雙頻等離子增強型化學氣相沉積技術 ，是沉積高品質的氮化矽、氧化矽等薄膜的理想工藝設備。雙頻技術採用13.56MHz射頻電源和400kHz中頻電源。射頻電源用於控制等離子體的通量；中頻電源用於控制等離子體的能量。

5月22日至24日，大連相約，與鵬城半導體共赴2026年微納器件與系統應用技術大會！

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大連香洲花園酒店（大連市西崗區長春路171號）